Élet-Stílus

Intel – itt a 45 nanométeres technológiával működő chip

admin
admin

2006. 01. 27. 15:29

Az Intel bejelentette, hogy elkészült az első működőképes 45 nanométeres csíkszélességgel gyártott SRAM (statikus RAM) lapkája.

Moore-törvény


Moore-törvénynek nevezzük azt a tapasztalati megfi-gyelést a technológiai fejlődésben, mely szerint az integrált áramkörök összetett-sége – a legalacso-nyabb árú ilyen kom-ponenst figyelembe véve – körülbelül 18 hónaponként meg-duplázódik.

A megfigyelést Gordon E. Moore, az Intel egyik alapítójának a nevéhez kötik.
Forrás: Vikipedia

Mindez azt jelenti, hogy az Intel a legjobb úton halad, hogy 2007-ben ezzel a technológiával és 300 milliméteres szilíciumostyákat felhasználva gyártson lapkákat, illetve hogy kétévente új gyártási technológiák bevezetésével továbbra is „feszegesse” a Moore-törvény határait.

Jelenleg az Intel az iparágban első a félvezetők 65 nanométeres tömeggyártásában. Arizonai és oregoni gyártóegysége készít 65 nanométeres technológiával chipeket, ám hamarosan egy írországi és egy újabb oregoni üzem is munkába áll.

„Az, hogy az Intel elsőként gyártott nagy volumenben 65 nanométeres technológia alkalmazásával, és elsőként állított elő 45 nanométeres chipet, jelzi a cég elsőségét a lapkagyártásban és technológiában” – mondta Bill Holt, az Intel technológia és gyártás csoportjának alelnök-vezérigazgatója.

Az Intel 45 nanométeres gyártástechnológiájú lapkáinál az új eljárásnak köszönhetően kevesebb mint ötödére csökken a szivárgási áram. Ez hosszabb akkumulátoridőt biztosít a mobil eszközök számára, valamint méretben kisebb, ámde nagyobb teljesítményű platformok építését teszi lehetővé.

A 45 nanométeres SRAM lapkák több mint egymilliárd tranzisztort tartalmaznak. Noha nem kereskedelmi termék, az SRAM segítségével még a 45 nanométeres processzorok és más logikai chipek gyártásának felfuttatása előtt demonstrálható a technológia színvonala, a kihozatal és a chipek megbízhatósága. Ez a világ legkomplexebb eszközeinek tömeggyártása felé tett első lépés.

A 45 nanométeres fejlesztések az Intel oregoni D1D-gyártó üzemében jelenleg is folynak, és emellett a társaság két új fab építéséről is beszámolt. Az arizonai Fab 32, és a Fab 28 Izraelben szintén 45 nanométeres csíkszélességű gyártástechnológiát alkalmaz majd a lapkák tömeges előállítására.

vissza a címlapra

Legfrissebb videó mutasd mind

Kecskemét, 2017. március 3.
Stadler József akasztói vállalkozó az ellene költségvetési csalás bûntette és magánokirat-hamisítás vétsége miatt indított büntetõper tárgyalásán a Kecskeméti Törvényszéken 2017. március 3-án. A bíróság a vádlottat öt év börtönbüntetésre ítélte.
MTI Fotó: Ujvári Sándor
Nézd meg a legfrissebb cikkeinket a címlapon!
24-logo

Engedélyezi, hogy a 24.hu értesítéseket
küldjön Önnek a kiemelt hírekről?
Az értesítések bármikor kikapcsolhatók
a böngésző beállításaiban.